硅光技术是基于硅和硅基衬底质料(如 SiGe/Si、SOI 等)，利用现有CMOS工艺进行光器件开发和集成的新一代技术，结合了集成电路技术的超大规模、超高精度制造的特性和光子技术超高速率、超低功耗的优势，是应对摩尔定律失效的推翻性技术。
面向后摩尔时代微电子与光电子的生长需求，中科院微电子所（IMECAS）基于8英寸CMOS工艺线开发了成套硅光技术，包括硅光流片工艺库和基础器件库，制定了硅光器件和芯片的设计规则和工艺规范，形成了硅光PDK，并于2017年5月正式宣布了海内首个具有完整硅光工艺流片能力的硅光平台。
微电子所硅光平台PDK已实现与主流光子集成设计软件Synopsys OptoDesigner集成。用户可以在软件中挪用IMECAS工具包，利用平台PDK提供的器件库，便捷、灵活地进行切合平台规范的硅光芯片设计。
硅光平台以8英寸CMOS工艺线为支撑，开发了面向硅基光子集成器件与芯片制造的工艺平台，建立了硅光设计仿真平台、光电测试平台。
平台配置了商用级8/12英寸硅光晶圆测试系统，该解决计划基于成熟可靠的12寸探针台和纳米级精密定位组件，搭建起高效且兼容性高的光电混淆测试系统。平台还配置了一套纳米级光电芯片耦合测试系统，针对差别的耦合方法为客户提供差别的测试解决计划。同时建立了全程可追溯的测试数据库，连续向客户推出种种灵活、可靠、可升级的产品和效劳。
